Работа над российским литографом на 90 нм начнётся уже в этом году!

Следите за публикацией новых материалов в MAX, Telegram, ВК

А вот и инфу про российский литограф на 90 нм подвезли! 🙂

20 марта 2026 года на XXI отраслевой научно-технической конференции радиоэлектронной промышленности замминистра промышленности Василий Шпак сообщил, что в этом, 2026-м году будет организован очередной конкурс на разработку литографа и постановку техпроцесса, на этот раз уже на 90 нм.

Напомню, что контракт на поставку уже разработанных серийных литографов на 350 нм был заключён ещё в сентябре 2025-го года и литографы уже поставляются на фабрику компании «Отраслевые решения» (соглашение предусматривает поставку, монтаж и пусконаладку оборудования). Компания входит в контур группы «Элемент» и отвечает за направление силовой электроники.

Разрабатываемый в настоящее время литограф на 130 нм тоже должен быть готов уже в этом году, причём согласно плану — уже в конце этого месяца, 31.03.2026. К этому сроку должен быть изготовлен первый опытный образец установки, и исполнитель должен перейти уже к разработке технологии фотолитографии с использованием этого литографа.

Срок полного завершение разработки и приёмочных испытаний этого литографа — 30.11.2026. После этого можно будет переходить к началу серийного производства. Ещё пару лет потребуется для выпуска серийных образцов и налаживания технологической линии.

Видимо, все работы идут по плану, и Минпромторг готов выделить деньги на разработку следующего поколения литографов на 90 нм. Понятно, что конкурс снова «выиграет» Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ), точнее, он будет единственным, подавшим заявление на конкурс. Больше подобных компетенций в стране ни у кого нет (если только белорусский «Планар» не решит заключить соглашение с кем-то другим).

Любопытно, что гендиректор Зеленоградского нанотехнологического центра (ЗНТЦ) Анатолий Ковалёв кокетливо сообщил, что компания пока не решила, будет ли участвовать в данном конкурсе, потому что планирует завершить разработку степпера с разрешением 130 нм только в ноябре 2026 года (как и положено по графику). Мне кажется, журналисты чего-то недопоняли, ибо логики в процитированном ими ответе я не вижу 🙂

Более того, 10 марта 2026 года состоялось очередное заседание Научного совета ОНИТ РАН, на котором тот же самый Анатолий Ковалёв рассказал о научно-технических решениях ЗНТЦ при локализации производства литографических степперов и поделился дальнейшими планами по разработке линии фотолитографического оборудования 350-90 нм.

Как отметил Анатолий Ковалев в своем выступлении, в настоящий момент перед Зеленоградским нанотехнологическим центром стоит ряд задач, ключевыми из которых являются:

• Освоение полного цикла фотолитографии без импортного оборудования;
• Снижение себестоимости и технологических рисков при производстве микросхем в РФ;
• Создание платформы для последующего масштабирования до 130/90 нм.

Он добавил, что на сегодняшний день у ЗНТЦ заключено уже два контракта на поставку нового степпера 350 нм. В настоящий момент ведется отработка базовых технологических процессов с заказчиками.

Очевидно, помимо фабрики компании «Отраслевые решения», контракт заключён и с заводом «Микрон». Думаю, что после того, как производственные линии выдадут первые полупроводники по нормам 350 нм, количество заказов на поставку степперов существенно возрастёт. А пока недоверчивый бизнес в ожидании результата.

А что там кроме литографов?

Помимо фотолитографов, для производства микросхем нужна масса другого оборудования, чистой химии, шаблонов и т.п. Так, в конце этого года (30.11.2026) уже должна завершиться разработка установок электрохимического осаждения меди, никеля и золота, стартовавшая в середине 2023-го года.

Также, к концу этого года ожидается окончание ряда других важных ОКР:

• ОКР 
  «Разработка и изготовление линейки установок для одно- и двухстороннего шлифования и полировки полупроводниковых пластин».
• ОКР «Разработка и освоение в производстве установки лазерного устранения дефектов и постановка технологического процесса устранения недопустимых дефектов на фотошаблонах в обеспечение производства интегральных схем с топологическими нормами 90-65 нм».
• ОКР «Разработка и освоение в производстве установки контроля координат топологических элементов и критических размеров структур на фотошаблонах в обеспечение производства интегральных схем с топологическими нормами 90-65 нм».
• ОКР «Разработка и серийное освоение технологий корпусирования высокопроизводительных микросхем в многовыводные полимерные корпуса».
• ОКР «Разработка специального эталона, зондов и калибровочных подложек для зондовых измерений комплексных коэффициентов отражения и передачи микроэлектронных структур на пластине в диапазоне частот до 110 ГГц».

Уже закончен ряд НИР’ов по чистой химии, вот малая их часть:

• НИР «Разработка технологии получения и постановка на производство этилендиамина».
• НИР «Разработка технологии получения и постановка на производство лимоннокислого калия, аммония и натрия».
• НИР «Разработка технологии получения и постановка на производство тиомочевины».
• НИР «Разработка технологии получения и постановка на производство тартрата натрия».
• НИР «Разработка технологии получения и постановка на производство нитрата таллия».

Поскольку в комментариях под каждой моей статьёй про литографы непременно появляются сердобольные люди, которые неустанно пишут о том, что помимо литографов нужно ещё вот это вот всё и многое другое, а ничего этого нет, волнуясь, что там, наверху, об этом, наверное, не знают, мне периодически приходится всё это перечислять.

Нет, всё там, наверху, знают, проплачивают, делают. Выделение больших денег на конкретный НИР или ОКР случается не просто так, по желанию одного человека, который где-то услышал, что нужны литографы, а происходит в результате проработки плана реализации требуемой цели. Разумеется, при цели импортозаместить фабрику, рассматриваются не только литографы, а всё, что для этого нужно, включая материалы.

Анализируется наличие в России компетентных команд, способных это сделать, стоимость разработки, доступность временного импорта для расстановки правильных приоритетов и т.п.

Другое дело, что литографы являются ключевым элементом технологической линии, которые наиболее сложно воспроизвести. Поэтому они и привлекают к себе такой интерес у широкой общественности.

Заключение

Думаю, что на днях кто-то из чиновников должен будет заявить о том, что опытный образец литографа на 130 нм уже создан. Конечно, если не случится отставания от графика работ.

Электромозг
https://dzen.ru